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电力半导体器件用高纯水设备工艺流程详解

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2013-12-14 16:01:18

   半导体超纯水设备可以去除掉水中的导电离子介质,也同样能够把水中有机污染物质、不溶于水胶体颗粒以及其他杂质去除。超纯水设备在半导体晶体材料、蓄电池生产、电路线路板等电子行业应用繁多。

  半导体超纯水设备工艺流程

  半导体超纯水设备组成主要有两大部分,分别是反渗透设备与EDI设备,以上两种工艺结合后形成一种新型环保、经济、发展潜力巨大的超纯水制备工艺。

  工艺流程:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

  电力半导体器件用高纯水设备运行安全、稳定、可靠,其出水水质均高达18.2兆欧以上,符合甚至超过我国电子行业用超纯水水质规定标准。整套运行系统拥有多个小系统组成,包括液位控制系统、高低压水泵泵压保护装置以及出水水质在线检测仪等,电力半导体器件用高纯水设备从真正意义上实现了不用专人看管。设备与其它同类产品相比较,具有设备可靠性和高性价比。

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