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半导体用去离子水设备工作原理

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2016-07-05 15:29:46

  半导体用去离子水设备采用超低压渗透过滤技术,去除了水质的杂质、细菌、热源、等有害物质,同时还能够去除水中的各种离子,使出水水质符合国家规定的卫生标准,符合企业的实际生产需要。

去离子水设备

  半导体用去离子水设备工艺流程

  1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

去离子水设备

  半导体用去离子水设备工作原理

  第一种:一般通过阳阴离子交换树脂取得的去离子水,出水电导率可降到10us/cm以下,再经过混床就可以达到1us/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本极高,而且颗粒杂质太多,达不到理想的要求。目前已较少采用了。

  第二种:预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺这种方法是目前采用最多的,因为反渗透投资成本也不算高,可以去除90%已上的水中离子,剩下的离子再通过混床交换除去,这样可使出水电导率:0.06左右。这样是目前流行的方法。

去离子水设备

  第三种:前处理与第二种方法一样使用反渗透,只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替,这样就不用酸碱再生树脂,而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了,经过去离子水设备处理后的水质可达到15M以上。但这这种方法的前期投资比较多,运行成本低。

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