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硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2016-08-22 15:55:10

  硅片切割清洗用超纯水设备主要采用预处理装置、反渗透系统、超纯化处理以及后处理等组成,该工艺可以将水中的导电介质完全去除掉,出水电阻率可以达到18兆欧以上。硅片切割清洗用超纯水设备针对硅片切割用水要求设计,受到用户的广泛认可。

超纯水设备

  硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

  1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

  2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

  3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

超纯水设备

  硅片切割清洗用超纯水设备特点

  1、零部件均采用进口产品,技术先进。

  2、质量可靠,整体化程度高,易于扩展,增加膜数量即可增加处理量。

  3、自动化程度高,遇故障马上自停,具有自动保护功能。

  4、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。

  5、能耗低,水利用率高,运行成本低。

  6、结构合理,占地面积少。

  7、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。

  8、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。

  9、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

超纯水设备

  莱特莱德企业多年以来一直致力于发展水处理行业,采用国外先进的技术并结合大家独特的工艺设计,根据客户的具体的要求,为客户设计出满足他们自身需求的超纯水处理设备,产品性能安全稳定。

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