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硅片切割清洗用超纯水设备性能优势

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2016-09-19 13:04:05

  硅片切割清洗用超纯水设备针对硅片切割用水要求设计,主要采用预处理装置、反渗透系统、超纯化处理以及后处理等组成,该工艺可以将水中的导电介质完全去除掉,出水电阻率可以达到18兆欧以上。

超纯水设备

   硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

超纯水设备

   硅片切割清洗用超纯水设备性能优势

  1、可连续,稳定地生产高品质纯水,无需因树脂再生而停机。

  2、无污染物排放,既环保又省去了废液处理的投资。

  3、设备结构紧凑,占地面积小,节省空间,同时还具有节能优点。

  4、出厂完成装置调试,现场工作量小,上岗培训容易。

  5、日常保养,操作简单,劳动强度低。

超纯水设备

  以上是硅片切割清洗用超纯水设备的简单先容。莱特莱德企业经过多年的发展,培育并拥有一批在工程方案设计,设备安装调试上实践工作经验丰富的工程技术人员。大家能够根据用户的实际使用要求,提供性价比佳的解决方案。

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