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硅片清洗为什么要用到超纯水?

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2016-12-22 15:39:29

  硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,否则微量污染也会导致器件失效。那么硅片清洗为什么要用到超纯水呢?

  超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。

 

硅片清洗为什么要用到超纯水

  硅片清洗对水质要求较高,电阻率达18兆以上,而超纯水是很好的选择。超纯水是一般工艺很难达到的程度,水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。

  以上就是硅片清洗为什么要用到超纯水的先容。超纯水设备应用范围在近几年越来越广泛,并且具有操作简单、水质稳定、运行成本低等特点,受到各行业的一致好评。

  相关推荐;超纯水如何制备?

 

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